ISO 11505:2012 表面化学分析 辉光放电光学发射频谱法进行量化组成深度描述的一般规程

标准编号：ISO 11505:2012

中文名称：表面化学分析 辉光放电光学发射频谱法进行量化组成深度描述的一般规程

英文名称：Surface chemical analysis — General procedures for quantitative compositional depth profiling by glow discharge optical emission spectrometry

发布日期：2012-12

标准范围

ISO 11505:2013描述了辉光放电光发射光谱法（GD-OES）测定表层薄膜厚度、单位面积质量和化学成分的方法。它仅限于对GD-OES定量的一般程序的描述，不直接适用于具有各种厚度和待测定元素的单个材料的定量。

ISO 11505:2013 describes a glow discharge optical emission spectrometric (GD-OES) method for the determination of the thickness, mass per unit area and chemical composition of surface layer films.It is limited to a description of general procedures of quantification of GD-OES and is not applicable directly for the quantification of individual materials having various thicknesses and elements to be determined.

标准预览图