T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

标准编号：T/ICMTIA 5.3-2020

标准名称：集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

英文名称：Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits

发布日期：2020-12-31

实施日期：2021-03-01

起草人

许从应、毛智彪、马潇、顾大公、李珊珊

起草单位

宁波南大光电材料有限公司

适用范围