YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

标准编号：YS/T 718-2009

标准名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

发布日期：2009-12-04

实施日期：2010-06-01

起草人

李智超、杨太礼

起草单位

利达光电股份有限公司

适用范围

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。