GB/T 34326-2026 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法

标准编号:GB/T 34326-2026

代替了下列标准:GB/T 34326-2017

标准名称:表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法

英文名称:Surface chemical analysis—Depth profiling—Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS

发布日期:2026-01-28

实施日期:2026-08-01

起草人

吴正龙、王海、王梅玲、张艾蕊、范燕、徐鹏

起草单位

北京师范大学、季华实验室、中国计量科学研究院、国家纳米科学中心

适用范围

本文件描述了在俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)中使用惰性气体离子的离子束对准方法,以确保溅射深度剖析中的良好深度分辨和表面的最佳清洁。这些方法有两类:一类是用法拉第杯测量离子束流;另一类是成像方法。其中,法拉第杯法还规定了离子束流密度和束流分布的测量要求。

本文件适用于束斑直径小于或等于1 mm 的离子枪,但不包括深度分辨优化。


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