DIN 50453-2:1990-10 Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method

标准编号：DIN 50453-2:1990-10

英文标题：Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method

德文标题：Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren

发布日期：1990-10

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