GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

标准编号：GB/T 34649-2017

标准名称：磁控溅射用钌靶

英文名称：Magnetron sputtering ruthenium target

发布日期：2017-09-29

实施日期：2018-04-01

起草人

罗俊锋、丁照崇、万小勇、刘书芹、贺昕、滕海涛、李勇军、向磊、熊晓东、王庄、高岩

有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院

本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。

本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶（以下简称钌靶）。