GB/T 28275-2012 硅基MEMS制造技术 氢氧化钾腐蚀工艺规范

标准编号：GB/T 28275-2012

标准名称：硅基MEMS制造技术 氢氧化钾腐蚀工艺规范

英文名称：Silicon-based MEMS fabrication technology - Specification for KOH etch process

发布日期：2012-05-11

实施日期：2012-12-01

起草人

夏伟锋、熊斌、周再发、李玉玲、冯飞、戈肖鸿

起草单位

中国科学院上海微系统与信息技术研究所、东南大学、中机生产力促进中心、重庆大学、中国电子科技集团第四十九研究所

适用范围

本标准规定了采用氢氧化钾腐蚀工艺进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求。本标准适用于氮氧化钾腐蚀工艺和管理。