GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

标准编号：GB/T 14849.4-2008

标准名称：工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

英文名称：Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

发布日期：2008-06-09

实施日期：2008-12-01

起草人

李跃平、石磊、张树朝

起草单位

中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等

适用范围

本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定。