GB/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件
标准编号：GB/T 18682-2002
标准名称：物理气相沉积TiN薄膜技术条件
英文名称：Specifications of physical vapour deposition TiN films
发布日期：2002-03-10
实施日期：2002-08-01
起草单位
武汉材料保护研究所
适用范围
本标准规定了物理气相沉积TiN薄膜的技术要求。本标准适用于物理气相沉积TiN薄膜，也适用于其他方法制备的TiN薄膜。本标准也适用于其他材料沉积层(TiC，TiCN，TiAIN等)。
