ISO 17331:2004 表面化学分析 从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定

标准编号：ISO 17331:2004

中文名称：表面化学分析 从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定

英文名称：Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence

发布日期：2004-05

标准范围

ISO 17331:2004规定了通过气相分解法或直接酸滴分解法从硅片工作参考材料表面收集铁和/或镍的化学方法。它适用于铁和/或镍原子的表面密度，从每平方厘米9个原子的6倍10次方到每平方厘米11个原子的5倍10次方。

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

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