ISO 23170:2022 表面化学分析 深度分析 利用中能离子散射对硅衬底上纳米级重金属氧化物薄膜的无损深度分析

标准编号：ISO 23170:2022

中文名称：表面化学分析 深度分析 利用中能离子散射对硅衬底上纳米级重金属氧化物薄膜的无损深度分析

英文名称：Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering

发布日期：2022-06

标准范围

本文件规定了一种使用中能离子散射（MEIS）对硅衬底上的非晶态重金属氧化物超薄膜进行定量深度剖析的方法。

This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

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