ISO 14237:2010 表面化学分析 二次离子质谱 均掺物质法测定硅中硼的原子浓度
标准编号：ISO 14237:2010
中文名称：表面化学分析 二次离子质谱 均掺物质法测定硅中硼的原子浓度
英文名称：Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
发布日期：2010-07
标准范围
ISO 14237:2010规定了一种二次离子质谱法，用于使用由注入硼的认证参考材料校准的均匀掺杂材料测定单晶硅中的硼原子浓度。该方法适用于浓度范围为1 × 1016原子/cm3至1 × 1020原子/cm3的均匀掺杂硼。
ISO 14237:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method for the determination of boron atomic concentration in single-crystalline silicon using uniformly doped materials calibrated by a certified reference material implanted with boron. This method is applicable to uniformly doped boron in the concentration range from 1 x 1016 atoms/cm3 to 1 x 1020 atoms/cm3.
标准预览图
